CIF等離子去膠機(jī)

所屬分類：等離子去膠機(jī)

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表面改性

等離子清洗機(jī) 紫外臭氧清洗機(jī)

表面去膠

等離子去膠機(jī)

表面刻蝕

等離子刻蝕機(jī)

表面涂層

旋涂機(jī) 烤膠機(jī) 濺射鍍膜機(jī) 閃蒸成膜儀

產(chǎn)品參數(shù)

CIF推出等離子去膠機(jī)，采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡(jiǎn)便，性價(jià)比更高，使用成本更低，實(shí)用性更強(qiáng)，更容易維護(hù)。特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，對(duì)電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹(shù)脂、MEMS制造過(guò)程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對(duì)基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。

屬性: 產(chǎn)品名稱; 型號(hào); 廠商性質(zhì); 訪問(wèn)量; 更新時(shí)間

詳情: CIF等離子去膠機(jī); SPB5/6/8; 生產(chǎn)廠家; 3758次; 2024-03-18

產(chǎn)品詳情

等離子去膠機(jī)原理

等離子去膠機(jī)原理同等離子清洗類似，主要通過(guò)氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來(lái)去除光刻膠，由于光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物，在射頻或微波作用下，工藝氣體氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通過(guò)泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。在反應(yīng)氣體中加入氮?dú)饣蛘邭錃饪梢蕴岣呷ツz性能、加強(qiáng)對(duì)殘留物的去除。與傳統(tǒng)的化學(xué)去膠方法相比，等離子去膠機(jī)具有更高的清潔效率和更少的環(huán)境污染。

產(chǎn)品特點(diǎn)

u7寸彩色觸摸屏互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài)，20個(gè)配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。

uPLC工控機(jī)控制整個(gè)去膠過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

u石英真空艙，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。

u可選用石英舟，更適合晶元硅片去膠應(yīng)用。

u采用花灑式多孔道進(jìn)氣方式，改變單孔進(jìn)氣不均勻問(wèn)題。

u采用防腐數(shù)字流量計(jì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng)，可選多氣路氣體輸送系統(tǒng)，氣體分配均勻。可輸入氧氣、氬氣、氮?dú)?/span>、氫氣或混合氣等氣體。

uHEPA高效過(guò)濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

u處理高效均勻，效率高，工藝重復(fù)性好。

u樣品處理溫度低，無(wú)熱損傷和熱氧化。

u安全保護(hù)，艙門打開(kāi)，自動(dòng)關(guān)閉電源，機(jī)器運(yùn)行、停止提示。

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